Pristatė revoliucinę mikroschemų gamybos technologiją: leidžia pagaminti 5 000 kartų plonesnes nei žmogaus plaukai lustų struktūras

EUV reiškia ekstremalius ultravioletinius spindulius, kurie leidžia pagaminti daug galingesnes, energiją taupančias ir prieinamas mikroschemas nei bet kada anksčiau.

Naujame gamybos procese veikia tik 13,5 nanometrų ilgio šviesos bangos, palyginti su iki šiol pirmaujančiais optinės litografijos procesais, kuriuose veikia 193 nanometrų ilgio šviesos bangos. Taigi, EUV leido pagaminti 5 000 kartų plonesnes nei žmogaus plaukai lustų struktūras. Pakankamai įspūdinga, ar ne?

Bet tai nėra visiškai nauja. Išmaniuosius telefonus, naudojančius šią pažangią technologiją, galima įsigyti nuo 2019 m. rudens. Bet kaip jie buvo sukurti?

Įmonės ASML ir TRUMPF sukūrė unikalų šviesos šaltinį šiam projektui. Tai susideda iš ASML sukurto plazmos šaltinio, kur 50 000 alavo lašelių per sekundę įleidžiama į vakuuminę kamerą, o po to dar du paeiliui sekantys impulsai iš galingo CO₂ lazerio, sukurto TRUMPF.

„Kaip proveržio naujovė, EUV technologija ir toliau suteikia didelę pažangą skaitmeninant verslą ir visuomenę“, – sako dr. Markusas Weberis, „ZEISS Group“ vykdomosios valdybos narys ir vadovas puslaidininkių gamybos technologijos segmente.

Jeigu norite sužinoti daugiau apie tai, kaip atsirado EUV litografija, apsilankykite ZEISS svetainėje. Už šį darbą ZEISS, TRUMPF ir „Fraunhofer“ pelnė apdovanojimą „Deutscher Zukunftspreis 2020“.

„Mes sveikiname ZEISS, TRUMPF ir „Fraunhofer“ mokslininkus pelnius šį puikų apdovanojimą už nuostabų darbą. EUV litografijoje jie sukūrė technologiją, kuri užtikrins skaitmenizacijos postūmį visame pasaulyje, taip sukurdami pamatą tolesnėms naujovėms“, – pridūrė profesorius Reimundas Neugebaueris, „Fraunhofer-Gesellschaft“ prezidentas.